株式会社 美和製作所 miwa, グローブボックス,ガス循環精製装置,電気炉,乾燥炉,高周波誘導加熱,クリーンオーブン,GLOVE,PURIFICATION,CLENOVEN,

high-frequency induction heating device | 高周波誘導加熱装置

Outline | 概要

  MU-1700シリーズは、従来大型・高価格だった加熱装置をパソコンサイズに凝縮。
物性の研究、半導体の研究、試料作成などの研究開発に最適な機能を備えた、省スペースと高スペックを実現した高周波誘導加熱装置です。
 

Feature | 特徴

  高融点材料カーボン、タングステン、モリブデンるつぼを用いることにより最高温度2200℃を可能にします。
 
  [例]  
  真空中で断熱遮断光材にカーボンファイバーを用いてカーボンを加熱。  

Outline | 概要

 
製造元:
 

Specs | 仕様

急速加熱が行える。
 
金属を直接加熱すると、30gのCo-Cr合金であれば、1400℃(融点)迄約20秒で加熱することができる。  
冷却スピードが早い。  
無機材料でできたルツボや炉芯菅は加熱されないので冷却が早い。  
炉芯管に石英管を使用すると内部が観察できる。  
無機材料でもカーボンルツボ等を使用することで間接加熱できる。  
必要な部位のみでの加熱ができる。  
セラミックやプラスチックと金属複合体の場合には、金属のみを加熱することができる。  
構造が簡単なのでメンテナンスも容易である。  
応用分野としては、グローブボックス等に組込め、不活性ガス中で加熱溶解、燃成が行える。  
       
 
 
       
 
半導体研究
石英管に真空封入した試料を加熱。
流体加熱
流路内に各種発熱体(カーボンハニカム、金属リングなど)を配し、液体、粉体、気体を加熱。
 
  電極封入
局部的に加熱しガラスを溶融させ電極を封入。
焼き入れ、焼きなまし
20φ.SUS丸棒の場合約30秒で600℃
 
  直接加熱
一般的な加熱方法である金属を直接加熱。
真空(ガス置換)
真空.ガス置換ユニット(オプション)にてに試料周辺のみを容易に雰囲気制御可能。
 
  間接加熱
純Si、ガラス、灰など誘導によって直接発熱しない試料の加熱・溶融。
真空・加圧容器内
融点、沸点の異なる金属の合金作成や電池材料などの研究に。